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VCD系列HMDS真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），HMDS真空鍍膜機又稱HMDS基片預處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進行的鍍膜。喆圖HMDS真空鍍膜機對箱體內(nèi)預處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行，沒有HMDS揮發(fā)，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵